Compuestos fotoprotectores análogos de MAA, procedimiento de síntesis y composición que comprende los mismos

Resumen

La invención describe nuevos compuestos fotoprotectores análogos de MAA que presentan de manera general la fórmula 1:

{IMAGEN-01}

y sus sales y solvatos aceptables;

en la que:

R₁ se selecciona del grupo constituido por alquilo C_1-6, S-alquilo C_1-6 y O-alquilo C_1-6;

R₂ se seleccionan cada uno del grupo constituido por H y alquilo C_1-6;

R₃ se seleccionan cada uno del grupo constituido por

{IMAGEN-02};y

n es un número entero seleccionado del grupo constituido por 0, 1 y 2.

La invención también describe procedimientos de síntesis de tales compuestos así como composiciones que los comprenden.